ラピダス、TSMC、DNP…日本の半導体産業はどうなる？再生への道を探る！?ラピダス、2nm半導体製造への挑戦！DMCO技術、人材育成、そして未来

ラピダスの成功には人材育成が不可欠

半導体産業における人材育成の重要性と、ラピダスの取り組み、そしてインテルの事例について解説します。

求人数は倍！ラピダスに忍び寄る半導体産業の人材不足問題

✅ 日本の経済成長をけん引する重要な産業として、半導体製造への投資が活発化しており、2023年度補正予算では1兆5000億円が半導体生産能力増強に充当される計画です。

✅ 特に、2nmロジック半導体の国産化を目指すラピダスという企業が注目されています。ラピダスは、8社の共同出資で設立され、IBMの技術を活用し、TSMCに匹敵する規模の生産を目指しています。

✅ ラピダスの成功には、半導体人材の育成が不可欠で、高収益を達成するTSMCのような存在になる可能性を秘めています。TSMCは、最先端技術と高効率な生産体制で、世界中の企業から信頼を得ており、ラピダスも同様の成功を目指しています。

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インテルの例は、人材不足が技術開発の遅れに繋がるという、非常に重要な示唆ですね。

ラピダスが2nm量産を成功させるためには、人材育成が不可欠です。

ラピダスは、2027年までに2nmを量産すると発表し、北海道・千歳工場の起工式を開催しました。

ラピダスは社員数を200人を超え、米IBMの開発拠点に60人を派遣するなど、人材育成に力を入れています。

しかし、筆者は、半導体の最先端開発には、ラピダスの現在の規模では人材が不足すると主張しています。

筆者は、2016年まで最先端微細化を推進していたインテルが、社員数を大幅に削減したことが、10nm以降の微細化に失敗した原因だと分析しています。

インテルは、2000年代に2度のリストラを実施しました。

1度目はITバブル崩壊に対応するリストラでしたが、2度目は5代目CEOのポール・オッテリーニ氏が「効率的な経営」を掲げ、半導体技術者を大幅に削減したことが原因だとされています。

オッテリーニ氏の時代、インテルは2年おきに微細化を進めましたが、技術者不足が影響し、14nmの開発が1年遅れ、10nmの開発は5年間立ち上がらない状況に陥りました。

筆者は、最先端の微細化開発は、次世代、次々世代の開発と並行して行う必要があると指摘し、インテルの例から、人材不足が最先端技術開発の遅れにつながることを示しています。

ラピダスが2nmの量産目標を達成するには、インテルの例から教訓を得て、人材育成と確保を強化していく必要があるでしょう。

人材育成はほんま大事やね。いくら良い機械があっても、使いこなす人がおらんかったら意味ないもん。ラピダスには頑張ってほしいな。

半導体業界を牽引する3社の比較

半導体業界を牽引する3社（ラピダス、TSMC、PSMC）の比較を通じて、日本の半導体産業の現状と課題を明らかにしていきます。

世界一のファウンドリ誘致、国策会社ラピダス設立は、日本の半導体産業に何をもたらしたか？

✅ 日本の半導体産業はかつて最先端技術を誇っていたが、現在は海外企業に大きく水をあけられている。

✅ 日本政府は、半導体産業の再興を目指し、TSMC誘致とラピダス設立という2つの取り組みを実施している。

✅ これらの取り組みは、総合電機の下に半導体部門があった従来の体制から脱却し、自由に動ける企業を生み出し、半導体産業への理解を深めることで、日本の半導体産業の再生に繋がる可能性を秘めている。

さらに読む ⇒ジェイビープレス｜リアルな知性で世界に勝つ出典/画像元: https://jbpress.ismedia.jp/articles/-/86153

TSMCとPSMCの存在は、日本の半導体産業にとって大きな刺激になりますね。

競争が激化することで、技術革新も加速するかもしれません。

ラピダス、TSMC、PSMCは半導体業界を牽引する3社の代表です。

ラピダスは、2nm世代以降の最先端ロジック半導体の量産化を目指し、日本政府と国内大手企業8社が出資しています。

世界最大手ファウンドリ「TSMC」は、世界中の半導体メーカーに製造を依頼されている企業で、最先端3nm世代で唯一量産を開始した世界最大手ファウンドリです。

高い技術力と製造能力を持つTSMCは、日本の半導体産業強化に欠かせない存在となっています。

日本への進出を果たした「JASM」は、TSMCが台湾有事のリスクと世界的な半導体不足への対策として日本に設立したもので、日本政府の補助金とソニーやデンソーからの出資を受け、熊本県に工場を建設しました。

注目の台湾ファウンドリ「PSMC」は、世界8位のファウンドリで、TSMCに次ぐ規模を誇ります。

主に、成熟プロセス（28nmや40nmなど）の製造を得意とし、車載半導体やIoT向け半導体の製造に力を入れています。

TSMC、PSMCか…ライバルがいるのは良いことだ。競争こそが成長の源。ラピダスも負けずに頑張って、世界を相手にガッツリ稼いでくれ!

DNPのフォトマスク製造プロセス開発

DNPのフォトマスク製造プロセスの開発について解説します。

2nm世代のロジック半導体向けフォトマスクの開発ですね。

ナノメートル世代のリソグラフィ向けフォトマスク製造プロセス開発を加速

✅ 大日本印刷（DNP）は、2ナノメートル世代のEUVリソグラフィ向けフォトマスク製造プロセスの開発を本格的に開始しました。

✅ DNPは、Rapidus株式会社が参画しているNEDOの「ポスト5G情報通信システム基盤強化研究開発事業」に再委託先として参画し、2ナノメートル世代のEUVリソグラフィ向けフォトマスク製造プロセスおよび保証にかかわる技術を提供します。

✅ DNPは、2025年度までに2ナノメートル世代のEUVリソグラフィ向けフォトマスクの製造プロセスの開発を完了し、2026年度以降は、2027年度の量産開始に向けて、生産技術の確立を進めていく予定です。

さらに読む ⇒大日本印刷株式会社出典/画像元: https://www.dnp.co.jp/news/detail/20173719_1587.html

DNPの技術力は、日本の半導体産業にとって非常に重要ですね。

2nm世代のフォトマスク開発への取り組み、今後の更なる発展に期待します。

大日本印刷株式会社（DNP）は、2ナノメートル世代のロジック半導体向けフォトマスク製造プロセスの開発を本格化しました。

DNPは、Rapidus株式会社が参画するNEDOの「ポスト5G情報通信システム基盤強化研究開発事業」に再委託先として参画し、2ナノメートル世代のEUVリソグラフィ向けフォトマスク製造プロセスと保証に関する技術を提供します。

DNPは、2016年に世界で初めてマルチ電子ビームマスク描画装置を導入し、高品質な先端半導体製造に対応してきました。

2023年には、3ナノメートル世代のEUVリソグラフィ向けフォトマスク製造プロセスの開発を完了し、今回の2ナノメートル世代開発へと進みます。

2024年度中には、2台目と3台目のマルチ電子ビームマスク描画装置を稼働させ、2ナノメートル世代の開発を本格化します。

DNPは、2025年度までに2ナノメートル世代のフォトマスク製造プロセスの開発を完了し、2026年度以降は2027年度の量産開始に向けて生産技術の確立を進めていきます。

さらに、2ナノメートル世代以降を見据え、imecとの共同開発で次世代EUV向けフォトマスク開発にも着手しています。

DNPは、パートナーとの連携を通じて、日本の半導体産業の成長に貢献していきます。

DNPか〜、やるね！DNPも2nm世代の開発に挑戦か。日本全体で頑張ってるって感じがして、すごく応援したくなるわ！

日本の半導体産業の再生に向けた、様々な企業の取り組みと技術革新の努力がよく分かりました。

今後の更なる発展を期待しています。