ラピダス:2nm半導体、日本の産業復活なるか?日本の半導体産業の未来を担うラピダスの挑戦
日本発の半導体企業Rapidusが、2nmロジック半導体の量産化へ!AIやチップレット技術で日本の半導体産業復活を目指す!
💡 日本の半導体企業Rapidusが、2nm半導体の量産化を目指している。
💡 Rapidusは、IBMやNEDOなどから技術支援や資金援助を受けている。
💡 2nm半導体は、AIやIoTなど、次世代技術の基盤となる重要な技術である。
それでは、まずRapidusの現状について詳しく見ていきましょう。
Rapidus:2nm半導体への挑戦
Rapidusが目指す半導体産業の未来は?
最先端技術のグローバルリーダー
Rapidusの2nm半導体量産化に向けた取り組みは、日本の半導体産業の復活を期待させるものですね。
公開日:2022/11/11

✅ 日本の半導体企業Rapidusは、2nmプロセス技術の開発において、2022年11月にIBMと提携することを発表しました。
✅ この提携により、RapidusはIBMから2nmプロセス技術のライセンスを取得し、自社の製造施設において2nmチップの製造を目指します。
✅ Rapidusは、2nmプロセス技術を、次世代のスマートフォンやデータセンターなどの分野で利用することを目指しており、日本の半導体産業の競争力強化に貢献すると期待されています。
さらに読む ⇒出典/画像元: https://eetimes.itmedia.co.jp/ee/articles/2211/11/news155.htmlRapidusは、日本の半導体産業の未来を担う存在として、世界で注目されています。
Rapidusは、2022年8月に設立された、世界最先端の半導体開発・製造を行う企業です。
同社は、2nmロジック半導体のパイロットライン稼働を目指しており、設計から製造までを一貫して行う「RUMS」という新しいビジネスモデルを採用しています。
RUMSは、AIとビッグデータを活用し、設計支援から前工程・後工程まで一貫して行うことで、迅速かつ高品質な製造を実現することを目指しています。
具体的には、設計支援においてはAIを活用し、製造工程で得られるデータを解析して顧客と共有することで、スピーディーな設計につなげます。
また、MFD(Manufacturing For Design)という概念を取り入れ、設計と製造を同時に最適化し、アジャイルな設計を可能にします。
前工程では枚葉式プロセスを採用することで、設計支援のための大量のデータ収集が可能となり、AIとの連携による歩留まり向上が期待できます。
後工程では、チップレット技術を独自開発し、半導体を構成する要素を個別設計することで、柔軟性と効率性を向上させます。
Rapidusは、これらの取り組みを通じて、日本の半導体産業の復活と、最先端技術のグローバルリーダーとしての地位確立を目指しています。
いやー、Rapidusはやる気満々だな!2nm半導体で世界を席巻するつもりか?
NEDOによる支援と研究開発の進捗
Rapidusの2nm世代半導体開発、どんな最新状況?
2025年度NEDO承認、量産技術開発中
NEDOの支援は、Rapidusの研究開発を加速させる大きな力となるでしょう。
公開日:2025/04/01

✅ Rapidusは、NEDOから2025年度の計画と予算が承認され、2nm世代半導体の研究開発を本格化させる。
✅ 前工程では、北海道千歳市の製造拠点IIMでパイロットラインを立ち上げ、300mmウェハへの2nm GAAトランジスタ試作開発を進める。
✅ 後工程では、北海道千歳市の半導体後工程の研究開発拠点「Rapidus Chiplet Solutions(RCS)」で製造装置導入を開始し、量産化技術確立のためのパイロットライン構築を進める。
さらに読む ⇒出典/画像元: https://www.watch.impress.co.jp/docs/news/2003215.htmlRapidusは、NEDOの支援を得て、2nm半導体の研究開発を着実に進めているようです。
Rapidusは、2025年度にNEDOから2nm世代半導体の研究開発計画と予算が承認されました。
承認されたのは、NEDOの「ポスト5G情報通信システム基盤強化研究開発事業/先端半導体製造技術の開発(委託)」における「日米連携に基づく2nm世代半導体の集積化技術と短TAT製造技術の研究開発」と「2nm世代半導体のチップレットパッケージ設計・製造技術開発」の2つです。
前工程の「日米連携に基づく2nm世代半導体の集積化技術と短TAT製造技術の研究開発」では、2022年11月に採択され、北海道千歳市の製造拠点IIMで米IBMと協力して量産技術開発を進めています。
2024年度には製造装置設置やクリーンルーム稼働開始などにより、目標を達成しています。
今後、4月からパイロットラインを立ち上げ、300mmウェハへの2nmGAAトランジスタ試作開発を進め、顧客向けにPDKをリリースし、プロトタイピング開始環境を整えます。
後工程の「2nm世代半導体のチップレットパッケージ設計・製造技術開発」は2024年3月に採択され、2nm世代半導体のチップレットパッケージの大型化と低消費電力化を実現する実装量産技術・設計に必要なデザインキット、チップレットのテスト技術の確立を目的に、設計・製造技術の開発を進めています。
米IBM、独Fraunhofer、シンガポールのA⋆STARIMEとの国際連携も推進し、2024年度には基本プロセスフローの決定と装置選定が完了しています。
北海道千歳市のセイコーエプソン千歳事業所内に、半導体後工程の研究開発拠点「RapidusChipletSolutions(RCS)」を設置し、2024年10月から稼働準備を行っています。
今年度はRCSにおいて4月から製造装置導入を開始し、量産化技術確立のためのパイロットライン構築、RDLインターポーザ開発、3Dパッケージ技術、最新の後工程技術に対応したADKの構築推進、品質管理手法KGDの選別フローの開発を進めます。
やっぱり、国策でやるってのは違うね!資金力も技術力も桁違いだ。
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Rapidus、次世代半導体工場にEUV露光装置導入!2025年4月稼働開始へ。日本の半導体産業復活なるか?